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四氟化碳 CF4 (Carbon tetrafluoride)
———CAS: 75-73-0 纯度: >99.999%用途：电子工业中等离子蚀刻、电子器件表面清洗、印刷电路的去污剂；制冷剂；电力行业的电气绝缘和灭弧材料；太阳能电池的生产等。 -
六氟化硫 SF6 (Sulfur hexafluoride)
———CAS: 2551-62-4 纯度: >99.999%用途：用作高压开关、大容量变压器、高压电缆和气体的绝缘材料。采矿工业用作反吸附剂，用于矿井煤尘中置换氧。高纯SF6还因其化学惰性、无毒、不燃及无腐蚀... -
六氟乙烷 C2F6（hexafluoroethane）
———CAS: 76-16-4 纯度: >99.999%用途：六氟乙烷可用于一种具多功能的蚀刻技术，常见于半导体之生产。它可用于金属硅化物及金属氧化物并相对其金属基质的选择性蚀刻。叧外，它亦用于蚀刻硅上... -
笑气 N2O（nitrous oxide；Laughing gas）
———CAS: 10024-97-2 纯度: >99.9995%用途：医用麻醉剂，火箭推进剂，赛车加速助燃剂，杀虫灭菌剂。在集成电路器件、IC 卡、LED、微电子、光伏等行业中也有广泛应用。 -
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三氟甲烷 CHF3（Trifluoromethane；Freon23）
———CAS: 75-46-7 纯度: >99.999%用途：用作低温(-100℃)制冷剂，电子工业等离子体化学蚀刻剂及氟有化合物的原料、致冷剂、灭火剂替代品。 -
三氯化硼 BCL3 （Boron trichloride,Boron chloride）
———CAS: 10294-34-5 纯度: >99.999%用途：高纯硼和有机硼的制取，掺杂、蚀刻、光纤维的制造、扩散。 -
硅烷 SIH4（Silane）
———CAS: 7803-62-5 纯度: >99.9999%用途：硅烷广泛应用于微电子、光电子工业， 用于制造太阳电池、平板显示器、玻璃和钢铁镀层， 并且是迄今世界上唯一的大规模生产粒状高纯度硅的中间产物。硅...
