产品展厅

 
 
您现在的位置:首页 > 产品展示
  • 四氟化硫 SF4 (Sulfur tetrafluoride)

    ———
    CAS: 7783-60-0 纯度: 99%
    用途:广泛应用的最有效的选择性有机氟化剂,它能将羰基和羟基选择性地氟化(取代含羰基化合物中的氧);在精细化工广泛应用于高档液晶材料和高端医药、农药工...
  • DAST

    ———
    CAS: 38078-09-0 纯度: 95%
    用途:氟化试剂、抗癌药物上氟剂
  • 氟氮混合气(5%~30%)F2/N2

    ———
    CAS: 7782-41-4 纯度: 氟气99%
    用途:广泛应用于医药中间体合成、电子工业芯片制造,氟化塑料的生产及油箱氟化处理。
  • 四氟化碳 CF4 (Carbon tetrafluoride)

    ———
    CAS: 75-73-0 纯度: >99.999%
    用途:电子工业中等离子蚀刻、电子器件表面清洗、印刷电路的去污剂;制冷剂;电力行业的电气绝缘和灭弧材料;太阳能电池的生产等。
  • 六氟化硫 SF6 (Sulfur hexafluoride)

    ———
    CAS: 2551-62-4 纯度: >99.999%
    用途:用作高压开关、大容量变压器、高压电缆和气体的绝缘材料。采矿工业用作反吸附剂,用于矿井煤尘中置换氧。高纯SF6还因其化学惰性、无毒、不燃及无腐蚀...
  • 六氟乙烷 C2F6(hexafluoroethane)

    ———
    CAS: 76-16-4 纯度: >99.999%
    用途:六氟乙烷可用于一种具多功能的蚀刻技术,常见于半导体之生产。它可用于金属硅化物及金属氧化物并相对其金属基质的选择性蚀刻。叧外,它亦用于蚀刻硅上...
  • 笑气 N2O(nitrous oxide;Laughing gas)

    ———
    CAS: 10024-97-2 纯度: >99.9995%
    用途:医用麻醉剂,火箭推进剂,赛车加速助燃剂,杀虫灭菌剂。在集成电路器件、IC 卡、LED、微电子、光伏等行业中也有广泛应用。
  • 氯气 CL2(chlorine)

    ———
    CAS: 7782-50-5 纯度: >99.999%
    用途:用于漂白,制造氯化合物、盐酸、聚氯乙烯,可用作半导体生产中的气体蚀刻剂等。
  • 三氟甲烷 CHF3(Trifluoromethane;Freon23)

    ———
    CAS: 75-46-7 纯度: >99.999%
    用途:用作低温(-100℃)制冷剂,电子工业等离子体化学蚀刻剂及氟有化合物的原料、致冷剂、灭火剂替代品。
  • 硅烷氩混合气 (1-10%)SIH4/AR

    ———
    纯度: SIH4:>99.9999%; AR:>99.9999%
    用途:半导体工业

手机号:18628123559 座机:(028)8279 5055 邮箱:sales@cdhltech.com 地址:成都高新区吉瑞一路200号

XML

Copyright © 成都华澜科技有限公司 .All rights reserved   网站建设: 食品商务网   盖德化工网